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求助,红外光学镀膜 基片为锗
holdout@163
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求助,红外光学镀膜 基片为锗
2010-12-16 10:30:18
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锗基片
镀膜
在14到25.5微米范围内T>40% 14.5处T>60%
截止范围为13微米 截止范围内<0.1%
这样的要求可以做到吗?
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锗在16微米以后有比较严重的吸收!
望有经验的高手指点!
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2010-12-16 10:31:16
有经验的朋友为小弟指点下,跪谢
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2010-12-17 10:52:40
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