用国产机器做CWDM的可能性

sery1234

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以前确实没做过，高手哦，你看就知道，想做这方面的，你给点意见，买设备的时候要达到什么要求才行哦

RomiSu

做CWDM膜层厚度大约50～60um。
要求设备状态稳定，膜层控制精度高。一般采用规整设计与非规整设计相结合，还要考虑两种膜系结合产生的dip影响，等等。国产机基本上不可能。
目前基本上都是进口镀膜机设备。

RomiSu

日本光驰机
美国veeco机
德国莱宝机

ghtzna

目前我在用进口机台做9000NM左右的窄带哈，收获很多哦

sery1234

ghtzna 发表于 2011-6-8 11:40
目前我在用进口机台做9000NM左右的窄带哈，收获很多哦

做过的大部分是200-1100nm以内的窄带，以后多交流！

ghtzna

这种使用黑玻璃就好了

sery1234

黑玻璃也可以做，但是据说截止深度不够，至少需要OD4的截止度。

sery1234

ghtzna 发表于 2011-6-8 15:35
这种使用黑玻璃就好了

黑玻璃也可以做，但是据说截止深度不够，至少需要OD4的截止度。

sery1234

RomiSu 发表于 2011-6-7 17:02
做CWDM膜层厚度大约50～60um。
要求设备状态稳定，膜层控制精度高。一般采用规整设计与非规整设计相结合， ...

谢谢，只是先做一个前期评估，多谢宝贵意见。

ghtzna

sery1234 发表于 2011-6-9 08:44
黑玻璃也可以做，但是据说截止深度不够，至少需要OD4的截止度。

是长春那边的么截止深度具体的是怎么量测的，基本上这边没有这个要求。倒是滤光片会经常有这个定义。求详解

ghtzna

OD*表示截止,根据OD1~OD6,截止带透过率从0.1~0.000001
                       
OD编号        截止带透过率               
OD1        =0.1               
OD2        =0.01               
OD3        =0.001               
OD4        =0.0001               
OD5        =0.00001               
OD6        =0.000001               

截止号        截止带               
A        400-1100nm               
B        300-1200nm               
C        200-2000nm               
D        400-700nm
E        400-800nm
F        400-1000nm
G        300-900nm
H        500-1000nm
I        800-1000nm
J        700-1200nm
K        200-1100nm

ghtzna

了解了