超光滑表面的加工技术

老驴 · 2003-4-9 19:08:00

最近我看了一些有关超光滑表面加工的一些书和文章,怎么觉得他们说的都是换汤不换药呢,翻来覆去说的就是几种方法,20世纪的和19世纪的好象没什么区别,难道就没有进展吗?

wjf990 · 2003-4-10 06:08:00

难道20世纪60年代出现的离子抛光也和19世纪的没什么区别吗？该方法适用于表面修正量小于20微米的零件，其精密抛光的最小表面粗糙度取决于离子束聚焦直径的大小。如能提供直径为1-2微米的微离子束以及超精光束位置的控制，可用于超精图形加工和对三维零件直接进行超精抛光。

老驴 · 2003-4-10 17:18:00

多谢指教

ic5 · 2003-4-10 20:48:00

要求表面粗糙度小于8μm，其抛光难度高吗？

老驴 · 2003-4-11 18:03:00

我没工作过，我不知道这个有多难，但是我现在正在看的超光滑表面都是nm级的

wjf990 · 2003-4-12 03:27:00

说来说去，你们说的不是光学元件加工吧，光学上表面粗糙度一般是不用um、nm做单位的。上述离子抛光面形精度可达0.1um，表面粗糙度约为Ra0.01微米。虽应用范围广泛，但除成本昂贵、设备复杂外，因抛光速度很慢，所以只适用于加工微型零件、偏离平面或非球面度较小的非球面和起始精度为λ/2的高精度平面。

ic5 · 2003-4-15 02:52:00

哈哈,让我大开眼界,请问老驴同志,你的nm级抛光技术是怎么实现的,采用怎样的原理,其用途在哪个方面?

wjf990 · 2003-4-15 07:00:00

ic5你好，你说的表面粗糙度8um，具体指的是哪一项指标呢，Ra?还是Rz?若是Ra的话，该是粒度240#到W28的磨料粗磨后的表面，若是Rz的话，该是W28到W14的磨料精磨后的毛面。一般对于抛光表面来说，用于平面镜、保护镜的抛光面等不在光学系统中的零件工作面，Ra0.01-0.02，Rz0.05-0.1；用于透镜、棱镜、分划板、反射镜等光学零件的抛光面，Ra0.01，Rz0.05；单位都是um哦

xyqy · 2003-4-15 07:01:00

20世纪初的工艺和19世纪的或许没什么区别，但八十年代之后应该有许多新的进展，只是见著资料的不多而已。
因为90年代之后，做光学工艺的比较萧条，书籍也就不太出版了，所以几乎没有新的理论和资料了。

gzc423 · 2003-4-15 07:14:00

離子束拋光---離子束拋光是在高真空環境下進行的，設備比較昂貴、它是用被加速的離子與工件表面原子核直接產生彈性碰撞，將能量直接傳給工件材料的原子，使其逸出表面從而將材料去除。是一種典型的用物理碰撞方法進行拋光的技術。
Kodak利用這一技術加工直徑0.5m,面形λ/50 rms,粗糙度0.6nm rms的表面。

wjf990 · 2003-4-15 07:23:00

是啊，为生产指路的工艺，是各企业的技术机密呢，从尊重知识产权的方面看来的确是该保密，可从改进、交流、论证等方面看来，就有点那个了。呵呵。。。。现在那几本专业期刊上，又有几篇关于工艺的文章呢？！

老驴 · 2003-4-16 05:45:00

超光滑表面的用途有很多呀，只不过我现在不记得很清楚了，好象可以用在微型的电子元气件上，还有光扦通信上，还有我就不记得了，实现方法好象有古典发，水浮发。。。。哎，不说了，省着错了被笑话，等哪天我拿着资料来在具体答复IC5老兄

超光滑表面的加工技术