新一代离子源

hakuto · 2003-7-1 17:31:00

KAUFMAN博士最新开发的END-HALL型离子源，又称KRI离子源，与传统离子源比较，阳极电压和离子流能量得到较大提高，同时体积减小很大，广泛应用于IAD和预清洗工艺，如需详细资料，请联系：刘先生
T：010-6566-0071
E-mail:andyliu@hakuto.com.hk

hacker · 2003-7-2 03:02:00

Please mail the information to me.
mail:hackerzhang@etang.com

Jesus · 2003-7-2 18:05:00

方便的话，能否给我发一份：
Optical_wu@wri.com.cn
我正在查找各类型离子源方面的资料，谢谢

hakuto · 2003-7-2 18:41:00

由于资料较多，请上面两位将详细的联系方法告之，我们会将资料尽快寄给您。谢谢。

hakuto · 2003-7-2 18:44:00

或者通过电话直接与我联系。刘先生：010-6566-0071

hakuto · 2003-7-3 17:20:00

已将简单资料发给你们，如需详细资料，请随时与我联系。谢谢。

hacker · 2003-7-3 22:12:00

Mr. Liu:
I’’ve recieved your information.When I need the ion source,I’’ll contact with you.
Thanks Regards!

likeoe · 2003-7-6 05:17:00

对于EH离子源，我总觉得它的功率变化范围太小，很难往小的方向调，有时用了离子源后薄膜的折射率做得反而低了，不知有没有新的可调范围比较大的离子源？

ic5 · 2003-7-6 23:36:00

其能量分布怎么样？价格多少？

hakuto · 2003-7-7 19:45:00

与VECCO的离子源相比，有很多改进。包括：能量、离子束范围及体积等。欢迎大家索取详细资料。

qwert · 2003-7-8 19:13:00

我们以前镀膜牢固度还不错。但现在经常有脱膜现象，有建议我们加离子源。请问离子源对膜层牢固的影响到底有多大？能否发份资料给我。谢谢！
yangju9@hotmail.com

flybirdzll · 2003-7-8 19:27:00

发个资料来看看，zyno_1@eyou.com