首页
光电资讯
光电论坛
科技博客
互动社区
光电小圈
登录
注册
行业动态
科技新知
会展会议
行业人物
光电科普
技术百科
光电商情与信息交流
光电理论及应用技术
光电同行在线互动区
每日一记
精彩分享
社区图库
精选话题
Collection
社区排行
光电工程师社区
»
光电论坛
›
光电理论及应用技术
›
光学镀膜技术及膜系设计
›
[讨论]沉积速率的大小对镀膜质量的影响 ...
悬赏问答
15
回答
5935
查看
悬赏
元光电贝
zxp163a
zxp163a
当前离线
积分
869
IP卡
狗仔卡
2004-9-23 06:08:00
蒸发速率不能太快,其缺点是有些需反应蒸发,易产生氧化不充分吸收增大,同时易产生材料喷溅,形成点子。但是折射率却是增大的。用光控控制时,光控的反射读数可以明显看出,蒸发速率高时,反射读数高,反之亦然(高折射率材料)。
举报
回复
显身卡
sunyan
sunyan
当前离线
积分
966
IP卡
狗仔卡
2009-8-21 10:27:17
学习中!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!
举报
回复
显身卡
longmin
longmin
当前离线
积分
15602
IP卡
狗仔卡
2009-8-21 21:39:11
速率大或小
影響最大的是折射率
那原有的設計就要更改
再來就要看看是否有通過膜質試驗
举报
回复
显身卡
526951749
526951749
当前离线
积分
2524
IP卡
狗仔卡
2009-8-22 15:29:53
10#
guangang
同意!但是速度过快的话,膜的均匀性就会差了,但是镀膜速度快的话,相对来说肯定是致密性高,折射率当然也就会高些了
举报
回复
显身卡
1
2
/ 2 页
高级模式
B
Color
Image
Link
Quote
Code
Smilies
您需要登录后才可以回帖
登录
|
注册
本版积分规则
发表回复
回帖并转播
回帖后跳转到最后一页
© 2001-2026
光电工程师社区
手机版
搜索
鄂ICP备17021725号-1