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这个问题看起来简单,认真追究起来非常复杂;一起我一个叫TONY的同事,做了一辈子的氟化物材料,也不能给我一个肯定的答复,究竟什么是造成镀膜喷溅的主要因素;不过我们总结的这些因素: 1)材料纯度不够,主要是MGF2在熔融提纯的过程中,如果真空度不是足够好,可能会存在MGO杂质,在镀膜的过程中,以MGO杂质为中心产生喷溅;2)MGF2材料在结晶的过程中,由于结晶速度控制不好,在多晶体结构中内部存在气泡或者空气间隙,在MGF2加热膨胀的过程中,气泡的爆裂产生喷溅; 所以镀MGF2要求光洁度好的话,一定要充分的预熔材料,用热蒸发镀比电子枪效果更好些 |