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原帖由 nittohai 于 2007-9-30 15:44 发表 
此膜系是应用于光驱中的光学零件,有专门测试相位差的仪器,可以批量测试.楼上的设计光学要求是达到了,但是在工艺上较难实现,主要是部分TiO2层太薄了,其次是镀银可能不是很好镀.
全介质膜也不好做,满足前3项就需要21层了.Ag蒸发还是好镀的.
δR=6±10度(入射角度45,波长655nm),δR=-4±10度(入射角度45,波长790nm),波面差在(1/8)λ以下
请问楼上的兄弟,是不是180度就是0度,可以这么理解吗?655nm落在176-196度,790nm落在166-186度就可以了?波面差怎么理解?
光驱镀膜多用sputter吧,日立环球和新科有做,我想没有这样的技术要求吧. |
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