磁控溅射靶源结构探讨

dongbeiren

关于磁控靶的结构,不同的厂家有自己的设计特色,但本人目前只了解一些原理性的东西,对于内部结构,溅射后,跑道是如何形成的,为什么这样形成?为什么不在真空室内建立一个大的均匀的(相对)的磁场,靶作为阴极(平面),基板作为阳极而不是每个靶单独配置一个磁场?那位大侠慷慨一些,告诉我这个新手?

dongbeiren

这东东比较敏感,看来还是没有朋友交流,大家共同进步嘛?

redlinn

可能很少有人知道吧，我也想问呢

chris_yun1113

LZ对磁控溅射的原理不清楚，建议去看些资料。简单的说就是电场磁场同时控制2次电子的轨迹形成跑道，高中物理上有。

chris_yun1113

靶面上附着又N个小磁体（永久磁铁），然后用极靴固定。再给靶加电压，电磁场就形成了。
LZ认为在炉内控制一个均匀的磁场很简单吗?

sea88sky

靶面上附着又N个小磁体（永久磁铁），然后用极靴固定。再给靶加电压，电磁场就形成了。
LZ认为在炉内控制一个均匀的磁场很简单吗?

yiheng

有关磁控溅射的讲义,大家分享.需要磁控溅射源的可以与我联系.waitai868@YAHOO.COM.CN

yiheng

磁控溅射讲义,大家共享.有需要磁控溅射源的可以与我联系.waitai868@yahoo.com.cn

noodlesy

8# yiheng


资料不错，就是太笼统了。有点看不懂！

arraysputter

靶材为条形的，每根靶材后对应一组永磁场。

little998

不懂，看一下！