2008-4-28 10:07:33 | 显示全部楼层 | 阅读模式
论坛上高手比较多!我有困难需要各位帮助.
那位有关于TIO2和SIO2的折射率与温度或成膜温度之间关系的技术文章?国内的和国外的都可以,小弟需要学习一下.或者关于设备(电子枪蒸镀)成膜均匀性方面的文章都可以!!!拜托了,谢谢了.我急着用!!!
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7844查看19回复

2008-6-6 11:24:04

成膜均匀性方面的文章

大口径镀膜机均匀性分析.pdf (182.51 KB, 下载次数: 191) 光學薄膜厚度修正擋板的設計.pdf (200.54 KB, 下载次数: 160)
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2008-6-11 09:04:26
下载了,我用的是2050的机子,均匀性一直不好!
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2008-6-11 09:05:59
除了MASK的形状外,其他的影响因素都包括哪些!?谢谢,请指导!!!
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2009-5-11 18:04:18
4# qx__wei


主要的就是sio2的蒸发速率和电子枪功率的控制!
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2009-5-11 18:12:46
那位高手指点下镀膜机光路的调整!
谢谢!
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fan_wl 该用户已被删除
2009-5-11 18:43:50
提示: 作者被禁止或删除 内容自动屏蔽
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2009-5-19 11:09:35
呵呵谢谢了,下来看看
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2009-5-19 12:08:54
好好学习学习~~~谢谢
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2009-5-20 22:14:34
好东西,学习学习。。。。。
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2009-5-21 17:23:01
我觉得应该是真空度越高,环境越干净,那么膜层致密度就可能高些,那么N应该也高一点吧    至于温度   也差不多,应该是温度高了以后的话     成核率就高   ,N也大   但是温度还是不要太高
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2009-5-22 16:00:18
好好学习学习~~~谢谢
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