2008-7-21 22:05:38 | 显示全部楼层 | 阅读模式
请大家讨论一下不同膜层(材料)的所用的脱膜剂,脱膜工艺(在超声波中脱还是直接泡在溶液里,溶液配比等)之类的。比如MgF2  H4  SIO2  AL2O3 TIO2用什么脱膜剂脱膜呀,大致的工艺是什么呀?请大家踊跃发表自己的经验,不要吝啬哟!
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2008-7-25 22:47:40
看来我先抛砖引玉一下吧,我听过可以用一种WIN-18的清洗剂,采用超声波洗净工艺,可以去除MGF2、AL2O3,控制温度和时间可以去除不同的厚度,我没去洗过,所以具体的细节也说不清楚,恐怕让人怡笑大方拉!
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2012-8-9 10:29:14
fawang 发表于 2008-7-25 22:47
看来我先抛砖引玉一下吧,我听过可以用一种WIN-18的清洗剂,采用超声波洗净工艺,可以去除MGF2、AL2O3,控 ...

Win-18(山之風的強鹼脫膜劑).我長期使用-對去除MgF2.AL2O3效果非常好.原液加熱50度.時間自行控制.一般單層膜10~20秒就可去膜干淨 .
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2012-8-9 11:08:56
这个我也用过 不过要是控温之类的有些麻烦了 直接在WIN18溶液里超声波浸泡 常温即可 根据膜层的厚度来判定具体浸泡时间

不过只能去除 sio2 MGF2 AL2O3这些 H4 TIO2都不行了 要用氟化氢铵才能去除
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