光学材料的干法刻蚀研究

jfkj2020

摘 要：本文对化学材料二氧化硅的干法刻蚀工艺进行研究，运用反应离子刻蚀设备对二氧化硅进行了刻蚀实验，通过对不同工艺条件下二氧化硅的刻蚀速

率、均匀性等参数对比，最终得出了二氧化硅等同类光学材料最佳的干法刻蚀

工艺条件。