|
|
用晶控控制物理膜厚是很准确的,中心波长左右漂移是光学膜厚变化了,也就是说膜料折射率变化了,再推上去就是真空度和充氧方式的问题。
建议你根据自己的机器选择固定流量或固定真空度方式充氧,日本机固定真空度,性能差点的机器就固定流量。
清机后同样的膜厚镀下来光谱会往短波跑40nm很正常。
sensor life用到 2 就要换了,越到后面就不灵敏了,会镀多。
温度也要注意点,冷镀的话需要保证10分钟的恒温时间(Delay time)。
镀膜起始真空度保持一致!
做仔细点,控制在10nm内没问题。我自己作业的时候连续镀三炉,反射光谱几乎都重合的,没漂移,呵呵。。。 |
|